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在半導(dǎo)體制造與微電子領(lǐng)域，晶圓表面涂層厚度的精確控制直接決定了器件性能與良率。傳統(tǒng)膜厚測量方法依賴人工取樣或離線檢測，存在效率低、破壞性、數(shù)據(jù)片面性等痛點(diǎn)。而光學(xué)膜厚儀憑借其非接觸、高精度、全自動化測繪能力，已成為晶圓涂層厚度檢測的核心工具...
隨著傳統(tǒng)的2D硅縮放達(dá)到其成本極限，半導(dǎo)體行業(yè)正在轉(zhuǎn)向異構(gòu)集成-將具有不同特征尺寸和材料的多個(gè)不同組件或管芯的制造，組裝和封裝到單個(gè)設(shè)備或封裝中，以提高性能，這就是混合鍵合技術(shù)。EVG是面向MEMS、納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場的晶圓鍵合和光刻設(shè)備的供應(yīng)商，近期推出了EVG®320D2W裸片制備和活化系統(tǒng)，這是業(yè)內(nèi)弟一個(gè)用于混合硅酸鹽管芯對晶片鍵合活化和清洗系統(tǒng)。晶圓鍵合系統(tǒng)集成了D2W鍵合所需的所有關(guān)鍵預(yù)處理模塊，包括清潔，等離子體活化，芯片對準(zhǔn)驗(yàn)證和其他必要的計(jì)量工具，并...
電容式位移傳感器是一種廣泛應(yīng)用于機(jī)械加工、自動化控制和精密測量等領(lǐng)域的傳感器。它可以檢測物體的微小位移，并將其轉(zhuǎn)換為電信號輸出，具有高精度、高靈敏度、可重復(fù)性好等特點(diǎn)。電容式位移傳感器的工作原理基于電容的變化。當(dāng)兩個(gè)帶電電極之間有介質(zhì)隔開時(shí)，它們之間的電容量會受到介質(zhì)性能和電極間距離的影響而改變。因此，在該傳感器中，常采用平行板電容器的結(jié)構(gòu)，將一個(gè)電極固定在底部的稱為靜電極，另一個(gè)電極固定在一個(gè)動態(tài)可移動的測量物體上，稱為運(yùn)動極。當(dāng)測量物體發(fā)生微小的位移時(shí)，運(yùn)動極的位置也會發(fā)...
電鏡隔振臺是一款緊湊型模塊化的主動隔振系統(tǒng)，有利于為基礎(chǔ)研究、應(yīng)用研究、生產(chǎn)等領(lǐng)域所用精密儀器創(chuàng)造穩(wěn)定的測量環(huán)境。本產(chǎn)品可在寬頻率范圍內(nèi)進(jìn)行隔振，為原子力顯微鏡、非接觸式表面輪廓儀、微型檢測設(shè)備等提供優(yōu)異的隔振性能。工作原理：安裝有測量和制造設(shè)備的地板或多或少會有振動。如果這些振動對設(shè)備造成不利影響，有效的解決方案則是使用隔振臺，以便營造適合該設(shè)備的條件。電鏡隔振臺使用電氣控制，通過對傳入振動施加反方向的力來立即消除振動。傳感器不斷監(jiān)測振動，并基于該信息，執(zhí)行器沿相反方向產(chǎn)生...
1.簡介光學(xué)光刻（Opticallithography），也稱為光學(xué)平版印刷術(shù)或紫外光刻，是在其他處理步驟（例如沉積，蝕刻，摻雜）之前用光刻膠對掩模和樣品進(jìn)行構(gòu)圖的方法。2.設(shè)備（接近式光刻機(jī)）2.1HMDS及涂膠1)標(biāo)準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)工藝中包括HMDS蒸汽預(yù)處理2)烤箱-批量處理多個(gè)晶圓3)HMDS也可以在手動旋轉(zhuǎn)器上旋轉(zhuǎn)涂布4）涂膠機(jī)上進(jìn)行光刻膠的涂布2.2對準(zhǔn)接觸光刻1)光刻前的對準(zhǔn)2)對準(zhǔn)器——處理具有對準(zhǔn)圖形的晶圓3)EVG610等掩模對準(zhǔn)機(jī)——尺寸從碎片到12”晶圓4)曝光...
電容式位移傳感器是一種常用的測量裝置，可以實(shí)時(shí)監(jiān)測物體的位置、形態(tài)和運(yùn)動狀態(tài)等。但是，在使用電容式位移傳感器時(shí)，也存在一些需要注意的問題，以下為詳細(xì)介紹：1.靜電干擾：電容式位移傳感器對靜電干擾比較敏感，在使用時(shí)應(yīng)盡可能減少或避免靜電干擾。特別是在干燥環(huán)境下，靜電干擾更加嚴(yán)重，會造成誤差的產(chǎn)生。2.靈敏度：本產(chǎn)品的靈敏度較高，因此需要進(jìn)行相應(yīng)的校準(zhǔn)，以確保其精度和可靠性。校準(zhǔn)時(shí)應(yīng)注意傳感器與被測對象之間的距離、介質(zhì)、溫度等因素的影響。3.溫度漂移：溫度變化會導(dǎo)致產(chǎn)品本身的參數(shù)...